液化三氟化氮化學(xué)式NF?，在常溫下是一種無(wú)色、無(wú)臭、性質(zhì)穩定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時(shí)裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，高純三氟化氮具有優(yōu)的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在蝕刻時(shí)，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時(shí)在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運用。